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直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能

文档作者: 蔡羽等        文档来源: 河南科技大学
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更新时间: 2015年11月30日
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采用直流溅射并结合热处理丁艺制备氧化镍薄膜,利用x射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。结果表明,在400~500 oC退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜;随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整;其中,500 oC下退火2 h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全同态薄膜锂电池阳极材料。
 

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