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平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

标 准 号: YS/T 719-2009
替代情况:
发布单位: 中华人民共和国工业和信息化部
起草单位: 利达光电股份有限公司
发布日期: 2009-12-04
实施日期: 2010-06-01
点 击 数:
更新日期: 2017年03月12日
内容摘要

本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。
本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
 

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